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第1099节

 

“了不起啊,小陆,你们了不起啊。”

沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65n干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!这么快让你们搞出来了!”

“哪里,哪里,领导。”

陆飞露出谦虚而内敛的笑容。

“说说吧,到底是怎么搞出来的?”

沙领导眼里满是赞赏之色。

“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳,我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”

陆飞笑道:“duv浸润式光刻机能成功,完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们,是他们的血汗和信念,才有了今天的光刻机,当然也离不开领导们的支持,地方上的政策,还有相关公司、院校、国企单位的合作。”

顿了顿,“可以说,这台duv浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心,也代表着目前国内光刻机的最高水平,距离国际一线的euv光刻机,只有一代的代差了。”

“生产7n的良品率是多少?”

郑韩脸上挂着得意的笑容。

毕竟,如此国之重器出自张江技术园区,沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。

“不同的芯片不同的良率,但基本能稳定在70%,慢慢调试改进,可以达到80%。”

陆飞比比画画道:“完全可以比肩asl,只用4个光罩、4次曝光,就可以达到7n制程工艺。”

沙领导问道:“现在逻辑和华为的手机用的都是7n制程工艺的芯片对吗?”

陆飞点了下头,“没错,7n是目前市面上最先进的制程工艺,不过根据摩尔定律,再过个一两年,就可能突破到5n。”

“5n是不是就需要euv光刻机了?”

郑韩好奇道。

“有euv光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7n、5n,但没有euv光刻机也无妨,有这台duv浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出个看似轻松的笑容。

“喔?”

顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。

“梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5n工艺。”陆飞直截了当地回答。

一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道:“光刻机这么极限使用,会不会影响到使用寿命?”

“还有良率。”

“是啊,经过这么多道曝光,任何一道工序失败,都可能满盘皆输,成本就上来了……”

领导们来回分析,议论纷纷。

陆飞只能一一回答,“损害寿命肯定会损害,良率低也肯定会低一些,成本自然也就会高一点,但这是没有办法的办法,目前euv光刻机国产化要实现彻底突破,还有不少技术难题摆在面前,需要时间去攻破。”

“比如呢?”

沙领导投去问询的目光。

“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台,现在双工作台已经解决了,光源问题也突破了,就剩下物镜系统。”

陆飞直说道:“asl、尼康的光刻机用的是蔡司的技术,但蔡司愿意卖给asl、尼康,但绝对不会出口给我们。”

然后叹了口气,“没办法,我们只能从零开始,联合长春光机、徕卡、华为等联合研发,现在搞定了duv浸润式的物镜系统,至于euv的,恐怕需要很长一段时间。”

“那这期间,复芯、中芯的晶圆代工,有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大?”

郑韩皱了皱眉。

“肯定会,但好在情况并不糟糕。”

陆飞笑道:“虽然5n是目前我们的极限,理论上而言,台积电、英特尔、三星这些有euv光刻机的,制程工艺甚至可以冲击到1n,但得到的回报并不会太高。”

不少领导感到奇怪,“为什么这么说?制程工艺难道不是越先进越好嘛?”

“理论上是这样,但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势,搭载5n芯片的手机体验,未必就不如3n,就会让3n及以下工艺陷入一种尴尬的地步,飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”

陆飞嘿然一笑,“反倒是28n、14n和7n这三个节点的工艺才是市场主流,特别是我们国内绝大部份的芯片需求,所以有了国产的duv浸润式光刻机,基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子,也能保证支撑到我们研发出euv光刻机的那一天。”

众人两两相望,相视一笑。

确实,28n是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。

除了对功耗要求比较高的cpu、gpu、ai芯片外,其余的工业级芯片用的都是28n以上的技术,比如电视、空调、汽车、高铁、火箭、卫星、工业机器人、电梯、医疗设备、智能手环、无人机……

但现在,7n,甚至不计任何代价,极限可以推到5n,简直是绰绰有余。

“你们在资金上、政策上、人才上,或者在其他方面,有没有什么需要我们解决的?”

沙领导慈眉善目。

陆飞也不客气,立马张口。

一个敢提,一个敢接。

“我还有个提议,希望领导们能支持。”

“说。”

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